IC（統合回路） ASMLのEUV露光装置は何が凄いのか？
半導体製造装置の主要な技術のひとつに、EUV（極端紫外線）露光装置があります。EUV（極端紫外線）露光装置は、わずか13.5nmという短い波長を使用して、シリコンウェハー上に数十億のトランジスタを含む微細なデザインを印刷することができます。
高性能なEUV露光装置は半導体...
IC（統合回路） 
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